1．   對於一般大氣中晶圓(wafer)等帶電電位衰減至1/10,於1S以內的短時間內除電。

 2．   與瓦斯的流動狀態無關,可獲得安定的除電性能。由於被光照射到的空間內廣泛圍地將瓦斯離子化,因此,即使除電對象物附近存在不穩定的氣流,不會影響除電性能。

 3．   平常完全不須維護,僅需依軟X線管頭的耐用期限(8000h)更換即可。

 4．   由於正負離子及電子平均分布於空間內,因此除電對象物的殘留電位可定為0V。

 5．   由於光直接離子化瓦斯,因此,在大氣壓下的話,在 N2、Ar等不活性瓦斯中亦可除電。

 6．   由於是光照射之離子系統,因此,完全不發塵,電磁雜訊(noise)也幾乎無發生。

 7．   依高能量光使得空氣中的氧氣分子亦加速離子化,因此,幾乎沒有產生臭氧(ozone)。

 8．   構成本系統的機器,僅有軟X線管頭及電力裝置2項,在製造裝置.搬運上的安裝容易。

用途：

 ‧電子設備的製造、組裝工程
　‧照相機、鐘錶、精密機械零件的製造、組裝工程
　‧食品、化妝品容器等的加工、填充工程
　‧紙張、薄膜(film)、薄板(sheet)類的捲繞、裁切工程
　‧成型機內脫模時的除電
　‧防止附著於Parts feeder等振動體製品
　‧防止軟片.感光材料之static mark